Chip-Lithografie: Zeiss baut deutsche Herstellung um über 25.000 m² aus Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology (Carl Zeiss SMT GmbH) baut seinen Standort in Oberkochen östlich von Stuttgart aus. Ein neues Bürogebäude ist gerade fertig geworden, jetzt konkretisiert Zeiss: Der Standort wächst um insgesamt 25.000 Quadratmeter Fläche für die Produktion und produktionsnahe Bereiche. Weiterlesen nach der Anzeige Dazu gehören Produktions-, Reinraum- und weitere Büroflächen. Auch an anderen Standorten wie Wetzlar in Hessen baut die Firma aus. Zeiss' SMT-Standort in Oberkochen. (Bild: Zeiss) Alle Welt auch von Deutschland abhängig Chiphersteller sind über Umwege maßgeblich von Zeiss abhängig: Es ist weltweit die einzige Firma, die Spiegel und Linsen herstellen kann, die rein genug für die modernsten Lithografie-Systeme von ASML aus den Niederlanden sind. ASML wiederum ist das einzige Unternehmen, das Lithografie-Systeme mit extrem-ultravioletter (EUV-)Belichtungstechnik in Serie herstellen kann. Die dafür notwendigen Laser stammen vom deutschen Unternehmen Trumpf. Die Herstellung ist aufwendig, weil es sich um die reinsten Optiken der Welt handelt: Würde man etwa einen Spiegel auf die Größe der Erdkugel hochskalieren, wären die gröbsten Verunreinigungen so klein wie ein Spielzeugauto. Die Optiken leiten das Licht, das durch Laserschüsse auf Zinn entsteht, durch die Belichtungsmaske auf den Silizium-Wafer. Die komplexeste und teuerste Ausbaustufe ist EUV-Lithografie mit hoher numerischer Apertur (High-NA EUV). Dort werden die Spiegel noch größer, um mehr Licht einzufangen. Zeiss' Optikmodul umfasst mehr als 40.000 Bauteile und wiegt rund zwölf Tonnen. Die Vermessung der Spiegel erfolgt in Vakuumkammern mit fünf Metern Durchmesser. Ein einzelnes High-NA-EUV-System kostet rund 350 Millionen Euro – doppelt so viel wie ein bisheriges Low-NA-System. Weiterlesen nach der Anzeige EUV-Lithografie-Systeme sind für alle modernen Chipfertigungsprozesse notwendig, sowohl zur Herste...
First seen: 2026-07-24 14:23
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